产品与解决方案

电池片硅片自动化设备

空穴层/导电层PVD镀膜设备

特点描述

立式旋转腔设计,减少设备长度,减少占地面积;
智能化工艺程序管理,实时数据记录;
适配于大面积玻璃衬底线性产线。

技术性能

  • 稼动率≥92%
  • 生产节拍:60s
  • 靶材利用率:≥30%(wt%) / ≥80%(wt%)
  • 破片率:0.1%
  • 片内片内/片间均匀度:<5%@EE=10mm
  • 玻璃基板尺寸:1200mm(L)*600mm(W) 厚度:1.6mm-3.2mm

 

技术参数

设备尺寸:23000mm*5100mm*3500mm (含自动化)

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