技术性能

• 基板大小：300mm*300mm*3.2mm；
• 基板温控：±1℃（控温精度）；
• 坩埚大小：40cc;
• 上片数目：10pcs；
• 保养频率：一周;
• 片间/片内均匀度<5%。

技术参数

设备尺寸：3000mm*5000mm*2700mm